Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
EUV-Lithografie — (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV). Dies soll es… … Deutsch Wikipedia
EUV-Lithographie — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… … Deutsch Wikipedia
EUVL — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… … Deutsch Wikipedia
lithographic mask — litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. lithographic mask vok. Lithografiemaske, f rus. маска для литографии, f pranc. masque de lithographie, m … Radioelektronikos terminų žodynas
litografijos kaukė — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. lithographic mask vok. Lithografiemaske, f rus. маска для литографии, f pranc. masque de lithographie, m … Radioelektronikos terminų žodynas
masque de lithographie — litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. lithographic mask vok. Lithografiemaske, f rus. маска для литографии, f pranc. masque de lithographie, m … Radioelektronikos terminų žodynas
маска для литографии — litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. lithographic mask vok. Lithografiemaske, f rus. маска для литографии, f pranc. masque de lithographie, m … Radioelektronikos terminų žodynas
